![]() Главная страница Случайная страница КАТЕГОРИИ: АвтомобилиАстрономияБиологияГеографияДом и садДругие языкиДругоеИнформатикаИсторияКультураЛитератураЛогикаМатематикаМедицинаМеталлургияМеханикаОбразованиеОхрана трудаПедагогикаПолитикаПравоПсихологияРелигияРиторикаСоциологияСпортСтроительствоТехнологияТуризмФизикаФилософияФинансыХимияЧерчениеЭкологияЭкономикаЭлектроника |
Общие принципы литографии ⇐ ПредыдущаяСтр 5 из 5
Задача литографии – перенос заранее заготовленного рисунка на плоскость подложки. Резист (Resist) – органический полимерный свето-(или электроно-) чувствительный материал. Наносится на материал подложки. Проявитель (Developer) – жидкость-растворитель проэкспонированных областей резиста (или наоборот) Подложка (Substrate) – тонкие пластины Si, SiO, сапфир, и др. Шаблон (Mask) (фотолитография, рентгеновская литография) – материал, прозрачный для излучения, на который нанесены области, формирующие рисунок, непрозрачные для излучения, который нужно передать на подложку
Электронный литограф снабжен специальной системой для управления ходом луча и получения картинок с разрешением десятки нм.
1. Нанесение резиста: Берем пластинку кремния или покрытую оксидом кремния. Наносим резист (в нашем случае PMMA), используем центрифугирование.
2. Устанавливаем меру в электронный литограф. Проверяем параметры программы для рисования (ток, увеличение, дозы, штриховку) Выбираем рисунок для производства детектора:
3. Достаем меру из литографа и проявляем ее в смеси воды и изопропилового спирта (1/8) 20 секунд 4. Проверяем полученный результат в оптическом микроскопе:
|